El depósito de capa atómica (ALD) ofrece un control preciso hasta la escala atómica.
La línea de productos ALD aparecen en la página de Cambridge Nanotech ALD. El depósito de capas atómicas es una gran promesa en una amplia gama de industrias, incluyendo la energética, óptica, electrónica, nanoestructuras y biomédica. Por ejemplo, La técnica de ALD se puede aplicar para acelerar la velocidad de los semiconductores mejorando la eficiencia de los paneles solares.
El principio de depósito de capa atómica es comparable al depósito químico en fase vapor (CVD), excepto por el hecho de que la reacción de ALD rompe la reacción de CVD en dos semi reacciones, manteniendo los materiales precursores separados durante la reacción. A través de pulsación secuencial de precursores especiales en fase vapor se consigue que cada ciclo forme de una única capa atómica (ciclo de reacción). Los ciclos de reacción se repiten hasta que se alcanza el espesor de película deseado, frente al depósito químico en fase vapor que introduce múltiples materiales precursores simultáneamente.
Los sistemas de depósito de capas atómicas (Savannah, Fiji y Phoenix) están diseñados para generar un recubrimiento controlado perfectamente uniforme libre de huecos, incluso en las profundidades de los poros, escalones y cavidades. Veeco es el proveedor líder de ALD para instituciones académicas y clientes industriales en todo el mundo, con más de 530 sistemas ALD enviados para I+D y producción.
Los sistemas térmico, Savannah®, y de plasma ,Fiji®, son las plataformas ALD de elección para I+D y han sido citados en más de 2.000 artículos académicos. Las aplicaciones industriales totalmente automatizadas para la fabricación ALD en grandes volúmenes (HVM), combinan el menor coste, con un rendimiento superior y los más altos estándares de calidad. El nuevo Firebird™ y el conocido Phoenix® están diseñados para satisfacer las necesidades específicas de los clientes en términos de rendimiento del proceso de ALD, manejo de obleas y producción, así como un control térmico flexible.
Cuando eliges este equipo, estás respaldado por un apasionado equipo de investigadores, usuarios y partidarios líderes en el mundo de ALD. Científicos expertos en ALD traerán una amplia y profunda experiencia para resolver sus desafíos más difíciles en materiales de capa fina.
