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Veeco ALD

El depósito de capas atómicas es una técnica muy prometedora con aplicaciones potenciales en una amplia gama de industrias, incluyendo la energética, óptica, electrónica, nanoestructuras y biomédica.

Veeco - Marca representada por Telstar

El principio de depósito de capa atómica es comparable al depósito químico en fase vapor (CVD), excepto por el hecho de que la reacción de ALD rompe la reacción de CVD en dos semi reacciones, manteniendo los materiales precursores separados durante la reacción. A través de pulsación secuencial de precursores especiales en fase vapor se consigue que cada ciclo forme de una única capa atómica (ciclo de reacción). Los ciclos de reacción se repiten hasta que se alcanza el espesor de película deseado, frente al depósito químico en fase vapor que introduce múltiples materiales precursores simultáneamente.

Los sistemas de depósito de capas atómicas de Veeco (Savannah, Fiji y Phoenix) están diseñados para generar un recubrimiento controlado perfectamente uniforme libre de huecos, incluso en las profundidades de los poros, escalones y cavidades. Veeco es el proveedor líder de ALD para instituciones académicas y clientes industriales en todo el mundo, con más de 530 sistemas ALD instalados para I+D y producción.

Los sistemas de Veeco son las plataformas ALD de elección para I+D y han sido citados en más de 2.000 artículos académicos.
Cuando eliges este equipo, estás respaldado por un apasionado equipo de investigadores, usuarios y partidarios líderes en el mundo de ALD. Científicos expertos en ALD traerán una amplia y profunda experiencia para resolver sus desafíos más difíciles en materiales de capa fina.

Productos

Savannah® – ALD térmico para I+D

Savannah® – ALD térmico para I+D

Savannah® se ha convertido en el sistema preferido por los investigadores universitarios de todo el mundo que participan en ALD y buscan una plataforma asequible pero sólida. Hemos entregado cientos de estos sistemas en la última década. El uso eficiente de precursores y funciones de ahorro de energía de Savannah® reduce sustancialmente el costo de operación de un sistema de deposición de película delgada. Savannah® está equipada con válvulas de pulso neumáticas de alta velocidad para habilitar el exclusivo Exposure Mode™ para la deposición de películas delgadas en sustratos de relación de aspecto ultra alta. Esta metodología comprobada de recubrimiento de película delgada de precisión se puede utilizar para depositar películas uniformes y conformes sobre sustratos con relaciones de aspecto superiores a > 2000:1. Savannah® es capaz de manejar precursores gaseosos, líquidos o sólidos.

Fiji: ALD mejorado con plasma para I+D

Fiji: ALD mejorado con plasma para I+D

La serie Fiji® es un sistema ALD térmico modular de alto vacío que se adapta a una amplia gama de modos de deposición utilizando una arquitectura flexible y múltiples configuraciones de precursores y gases de plasma. El Fiji G2 es un sistema ALD de próxima generación capaz de realizar deposición térmica y mejorada por plasma.
Se han aplicado análisis avanzados de dinámica de fluidos computacional para optimizar la geometría del reactor, el calentador y la trampa de Fiji®. La interfaz intuitiva del sistema facilita el seguimiento y cambio de recetas y procesos según sea necesario.

Phoenix – Producción por lotes ALD

Phoenix – Producción por lotes ALD

El sistema Phoenix® está diseñado para ofrecer un alto rendimiento y un máximo tiempo de actividad en cualquier entorno de fabricación, desde la producción piloto hasta la fabricación de nivel industrial. Los tecnólogos e investigadores confían en Phoenix® para la deposición de películas repetible y de alta precisión tanto en sustratos planos como en 3D. Y con soporte para hasta seis líneas de precursores individuales, Phoenix® ofrece procesos químicos sólidos, líquidos o gaseosos según sus necesidades de película delgada. Un tamaño compacto y un diseño innovador hacen de Phoenix® la opción práctica para quienes tienen requisitos de ALD de producción por lotes.

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